华创测控-80G雷达物位计在精馏罐液位检测解决方案
26G雷达物位计,用于测量二次筛分精馏和成品精馏罐的液位检测,客户要求一吨的储罐前后两次的误差要小于5公斤,这就对雷达物位计的液位测量提出了*高的精确到要求。由于罐底为圆弧形低,先期使用的26G雷达物位计经过现场实际生产使用达不到技术要求,经过沟通更换更高一个层次的80G雷达物位计,在精确度、计算方法、测量原理、稳定性等多方面性能都非常的优秀。
山东莱阳某新材料解决方案
山东省莱阳市某新材料有限公司是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。2023年初和我公司紧密合作,采购一整套集液位检测、现场显示、阀门现场控制和PLC控制、联锁报警控制、地磅数据采集联锁控制一体的系统。由于点位数较多而又考虑到成本,整体系统由三个区四组PLC组成局域网来实现。
雷达技术在燃煤电厂的成功应用
北京锐达仪表积极研发多款性能优良的雷达物位产品,能够很好地克服上述复杂工况,实现燃煤电厂物位的稳定测量。在料堆场的筒仓、原煤仓、粉煤仓、除灰系统、脱硫脱硝系统、汽机发电系统等都有比较成功的应用。下面,我们将针对其中三个典型的应用场景为大家展示锐达仪表的产品性能。
KRI 考夫曼霍尔离子源光学蒸镀镀膜机应用
1978年Dr.Kaufman博士在美国创立Kaufman&Robinson,Inc公司,研发生产考夫曼离子源,霍尔离子源和射频离子源.美国考夫曼离子源历经40年改良及发展已取得多项砖利.KRi离子源广泛用于离子清洗PC,离子蚀刻IBE,辅助镀膜IBAD,离子溅射镀膜IBSD领域,上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
考夫曼霍尔型离子源手机壳颜色镀膜和3D玻璃镀膜
海伯东美国KRI考夫曼霍尔型离子源EH5500成功应用于手机壳颜色镀膜和3D玻璃镀膜,湖南某手机镀膜制造商经过我司推荐采用大尺寸考夫曼离子源EH5500安装于生产设备2050mm蒸镀机中,实现LED-DBR离子辅助镀膜.
KRI霍尔离子源控制器成功替代Veeco Commonwealth
上海伯东是美国KRI考夫曼离子源中国总代理.经过实践,美国考夫曼公司霍尔离子源控制器*替代VeecoCommonwealth控制器,不需更改任何镀膜机计算机程序及相关设定即可直接运做!
KRI 考夫曼离子束中和器
一般使用宽束的工业用KRI离子源,都会使用中和器来达到使用激发电子中和离子的目的。常用来做中和器的像是热灯丝,电浆桥,或是中空阴极。图1的架构可适用于有栅极及无栅极的离子源上。若是应用在无栅极的离子源上,中和器称为阴极中和器。标的物可以是溅镀的靶材或是要被蚀刻的基材。在图1的架构上安装一个电压计,当作中和化的探针。
KRI 考夫曼离子源典型应用 IBF 离子束抛光工艺
离子束抛光加工IonBeamFiguring,IBF已逐渐成为光学零件表面超精加工常用的后一工艺,离子源是离子束抛光机的核心部件.上海伯东美国KRI直流电源式考夫曼离子源KDC系列成功应用于光学镀膜离子束抛光机IBFOpticalcoating及晶体硅片离子束抛光机IBFClrystalline)工艺.
KRi 霍尔离子源典型应用溅镀镀膜预清洁工艺 Pre-clean
KRi霍尔离子源典型应用溅镀镀膜预清洁工艺Pre-clean上海伯东美国KRi霍尔离子源EH400F成功应用于6寸硅片电源管理集成电路芯片PMIC溅镀镀膜前预清洁工艺Pre-clean.
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