上海伯东美国 KRI 考夫曼霍尔型离子源 EH 5500 成功应用于手机壳颜色镀膜和3D玻璃镀膜, 湖南某手机镀膜制造商经过我司推荐采用大尺寸考夫曼离子源 EH 5500 安装于生产设备 2050 mm 蒸镀机中, 实现 LED-DBR 离子辅助镀膜.

考夫曼离子源客户案例: 国内某手机镀膜制造商
1. 离子源应用: 手机壳颜色镀膜, 3D 玻璃镀膜生产.
2. 系统功能: 2050 mm 尺寸电子枪蒸镀镀膜机.
3. 离子源: 采用美国考夫曼离子源 KRi EH 5500. 离子源 EH 5500 提供的离子束 (不论是离子能量还是离子密度) 均是目前业界高等级, 离子源 EH 5500 大尺寸的离子枪本体设计所产生超广角的离子束涵盖面积及高均匀度的离子浓度分布可以涵盖 2050 mm 尺寸的蒸镀机中大范围的载具 (substrate holder), 无论是生产良率或是均匀性都可达到高生产效能.
4. 离子源功能: 通过 KRI EH 5500 霍尔源实现离子辅助镀膜 IBAD 及预清洁 Pre-clean 功能后, 所生产出的手机壳颜色镀膜及 3D 玻璃镀膜无论是环境脱膜测试, 耐刮测试, 膜层应力测试等等… 都优于目前一般业界蒸镀机所搭配的离子源.

上海伯东美国 KRI 霍尔离子源 EH 5500 优点:
高离子浓度, 高离子能量, 离子束涵盖面积广
气体分子离子转化率高, 离子束工作稳定
镀膜均匀性佳, 提高镀膜品质
模块化设计, 保养快速方便
增加薄膜附着性, 增加光学膜后折射率
全自动控制设计, 操作简易
低耗材成本, 安装简易

                  EH 5500 离子源本体

                   EH 5500 离子源控制器

上海伯东是美国考夫曼离子源 Kaufman & Robinson, Inc  中国总代理. 美国考夫曼公司离子源已广泛应用于离子溅射镀膜 IBSD. 考夫曼离子源可控制离子的强度及浓度, 使溅射时靶材被轰击出具有中和性材料分子而获得高致密, 高质量之薄膜. 考夫曼离子源可依客户溅射工艺条件选择 RFICP 射频电源式考夫曼离子源或是 KDC 直流电原式考夫曼离子源.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项砖利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

若您需要进一步的了解产品详细信息或讨论, 请联络上海伯东邓女士, 分机134