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伯东企业（上海）有限公司
KRI 考夫曼霍尔离子源光学蒸镀镀膜机应用
检测样品：镀膜检测项目：镀膜
方案概述：1978年Dr.Kaufman博士在美国创立Kaufman&Robinson,Inc公司,研发生产考夫曼离子源,霍尔离子源和射频离子源.美国考夫曼离子源历经40年改良及发展已取得多项砖利.KRi离子源广泛用于离子清洗PC,离子蚀刻IBE,辅助镀膜IBAD,离子溅射镀膜IBSD领域,上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
因产品配置不同，价格货期需要电议，图片仅供参考，一切以实际成交合同为准。
伯东公司 KRI 考夫曼霍尔离子源光学蒸镀镀膜机应用
常见蒸镀机台与对应 KRI 霍尔离子源型号：
蒸镀机台尺寸 | KRI 离子源 |
~1100mm | eH1010 |
1100~1400mm | eH1010, eH1020 |
1400~1900mm | eH1020, eH3000 |
KRI 考夫曼霍尔离子源 controller 自动化控制及联机自动化设计，提供使用者在操作上更是便利。
KRI 考夫曼霍尔离子源 Gun body 模块化之设计、提供使用者在于基本保养中能够降低成本及便利性。
伯东公司客户 1400 mm 蒸镀镀膜机安装 KRI考夫曼霍尔离子源 EH1020 F，应用于塑料光学镀膜。
KRI 考夫曼霍尔离子源 EH1020 主要参数:
Filament Controller | Discharge controller | Gas controller |
17.2A/ 22V | 150V/ 4.85A | Ar/ 32sccm |
利用 KRI 考夫曼霍尔离子源辅助镀膜及无离子源辅助镀膜对镀膜质量之比较：
KRI EH1020 辅助镀膜 | 无 Ion Source 辅助镀膜 | |
盐水煮沸脱膜测试 | 优 | 劣 |
破坏性百格脱膜测试 | 优 | 劣 |
光学折射设率 | 高 | 低 |
膜层致密性 | 优 | 劣 |
膜层光学吸收率 | 无 | 有 |
制程腔体加热温度 | 低 | 高 |
生产成本 | 低 | 高 |
KRI 考夫曼霍尔离子源系列主要型号包含：
离子源 eH200 | 离子源 eH400 | 离子源 eH1010 | 离子源 eH1020 | 离子源 eH3000 | |
Cathode | Filament or Hollow cathode | Filament or Hollow cathode | Filament or Hollow cathode | Filament or Hollow cathode | Hollow cathode |
Water Cooled Anode | no | no | no | yes | no |
Discharge Currentmax | 2 A | 3.5 (7) A | 10 (7) A | 10 (20) A | 20 (10) A |
Discharge Voltagemax | 300 V | 300 (150) V | 300 (150 ) V | 300 (150) V | 250 (300) V |
Discharge Voltagemin | 40* V | 40* V | 40* V | 40* V | 40* V |
Divergence (hmhw) | 45° | 45° | 45° | 45° | 45° |
Height (nominal) | 2.0” | 3.0” | 4.0” | 4.0” | 6.0” |
Diameter (nominal) | 2.5” | 3.7” | 5.7” | 5.7” | 9.7” |
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