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塑料材料耐候性与耐腐蚀性能综合测试解决方案
本方案针对塑料材料开展耐候与耐腐蚀性能评估。依次执行：①温湿度循环预处理（5个循环，-23℃~50℃）；②氙弧灯暴露试验（ISO4892-2循环1，168小时）；③盐雾试验（ASTMB117-19，168小时）。通过测试样品与对照样品对比，评估外观、颜色变化及表面劣化程度。结果表明：经联合试验后，测试样品出现明显变色、起泡及轻微粉化（灰卡等级3），而对照样品完好。
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- 型号：THS-80PF-FD
KRI 考夫曼霍尔离子源光学蒸镀镀膜机应用
1978年Dr.Kaufman博士在美国创立Kaufman&Robinson,Inc公司,研发生产考夫曼离子源,霍尔离子源和射频离子源.美国考夫曼离子源历经40年改良及发展已取得多项砖利.KRi离子源广泛用于离子清洗PC,离子蚀刻IBE,辅助镀膜IBAD,离子溅射镀膜IBSD领域,上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
考夫曼霍尔型离子源手机壳颜色镀膜和3D玻璃镀膜
海伯东美国KRI考夫曼霍尔型离子源EH5500成功应用于手机壳颜色镀膜和3D玻璃镀膜,湖南某手机镀膜制造商经过我司推荐采用大尺寸考夫曼离子源EH5500安装于生产设备2050mm蒸镀机中,实现LED-DBR离子辅助镀膜.
KRI霍尔离子源控制器成功替代Veeco Commonwealth
上海伯东是美国KRI考夫曼离子源中国总代理.经过实践,美国考夫曼公司霍尔离子源控制器*替代VeecoCommonwealth控制器,不需更改任何镀膜机计算机程序及相关设定即可直接运做!
KRi 霍尔离子源典型应用溅镀镀膜预清洁工艺 Pre-clean
KRi霍尔离子源典型应用溅镀镀膜预清洁工艺Pre-clean上海伯东美国KRi霍尔离子源EH400F成功应用于6寸硅片电源管理集成电路芯片PMIC溅镀镀膜前预清洁工艺Pre-clean.
KRI 霍尔离子源典型应用 PC 预清洁后,IBAD 辅助镀膜
霍尔离子源应用于光学镀膜机加装,实现预清洁PC,辅助镀膜IBAD光学镀膜opticscoating,在现代生产被广泛应用,例如玻璃镀膜,镜片镀膜,显微镜镜片镀膜,装饰灯罩镀膜都是需要的生产工艺.
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