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化合物半导体MOCVD外延设备前驱体气体浓度在线监测解决方案

金属有机化学气相沉积(MOCVD)是制备III-V族化合物半导体(如氮化镓GaN)的核心工艺,其关键在于精确控制前驱体气体的浓度、生长速率及工艺可重复性。为实现工艺优化,需对前驱体浓度进行实时监测,并通过反馈调节气体流量、温度、压力等参数,形成闭环控制。四方仪器作为红外气体传感器制造商,推出专为MOCVD设计的Gasboard-2062红外气体传感器,提供高精度、实时的前驱体浓度监测。

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红外气体传感器 半导体行业薄膜沉积工艺

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型号:Gasboard-2060

手机芯片高低温可靠性评估方案

为手机芯片设计的高低温可靠性评估方案失效预警前置:通过实时电流监测在循环第372次捕捉到早期短路征兆成本控制:采用阶梯式测试(50/200/500/1000次)中断检测,减少样品浪费数据可追溯:所有测试日志同步时间戳、温湿度、电压波动曲线(CSV格式导出)

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