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KRi 霍尔离子源典型应用溅镀镀膜预清洁工艺 Pre-clean
KRi霍尔离子源典型应用溅镀镀膜预清洁工艺Pre-clean上海伯东美国KRi霍尔离子源EH400F成功应用于6寸硅片电源管理集成电路芯片PMIC溅镀镀膜前预清洁工艺Pre-clean.
KRI 霍尔离子源典型应用 PC 预清洁后,IBAD 辅助镀膜
霍尔离子源应用于光学镀膜机加装,实现预清洁PC,辅助镀膜IBAD光学镀膜opticscoating,在现代生产被广泛应用,例如玻璃镀膜,镜片镀膜,显微镜镜片镀膜,装饰灯罩镀膜都是需要的生产工艺.
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